本发明公开了一种在微米级颗粒上通过磁控溅射镀易氧化薄膜方法，本发明使用真空腔、真空系统、磁控溅射镀膜系统、振动筛及电源等设备，完成粉体的分散、易氧化薄膜在超低氧分压下的生长及封装，最终得到镀过易氧化薄膜的微米级颗粒。微米级颗粒通过一定的工艺在其表面镀有单层或几层复合薄膜，使它既有原组成材料的性质，又具有镀层材料的一些特性，因而在各行各业中都将有着广泛的应用前景。