高透射率的钒基多层超晶格薄膜及其制备方法

专利号: CN201210127760.X 专利类型: 1
行业分类: 3 交易类型: 1
有效期限: 2012-04-26 至 2022-04-26
价格:¥26000.00

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本发明涉及高透射率的钒基多层超晶格薄膜及其制备方法,属于薄膜材料领域。所述的超晶格薄膜是在基片上交替沉积VO2薄膜上和金属氧化物薄膜。本发明与现有技术相比,其显著优点为:(1)操作简单,工艺时间短,便于控制,适宜于工业化生产;(2)生长的薄膜厚度能精确控制;(3)生长的薄膜表面平整,分布均匀;(4)生长的薄膜透射率高,能更好的应用于智能窗、光储存、光电开光等领域。

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