一种高活性阴极及其制备方法

专利号: CN201110323975.4 专利类型: 1
行业分类: 3 交易类型: 1
有效期限: 2011-10-21 至 2021-10-21
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一种高活性阴极及其制备方法。该方法包括:提供作为阴极基体的Ni网;配置过渡层涂覆液,其中Rh(NO<sub>3</sub>)<sub>3</sub>的含量为1g/L~3g/L;将过渡层涂覆液涂覆于Ni网上并进行烘干和热分解处理以在Ni网上得到过渡层;配置活性层涂覆液,其中H<sub>2</sub>PtCl<sub>6</sub>·6H<sub>2</sub>O、RuCl<sub>3</sub>·3H<sub>2</sub>O和Ce(NO<sub>3</sub>)<sub>3</sub>·6H<sub>2</sub>O的含量分别为3~6g/L、15~25g/L和1~2g/L;以及将活性层涂覆液涂覆于具有过渡层的Ni网上并进行烘干和热分解处理以在过渡层上得到活性层。根据上述方法制备的高活性阴极的组成为Ni/Rh<sub>2</sub>O<sub>3</sub>/RuO<sub>2</sub>-Pt-CeO<sub>2</sub>,基体表面的过渡层与活性层通过分开涂覆来实现,涂覆层中铑元素负载量仅为0.08~0.2g/m<sup>2</sup>,涂覆层制作过程为“预烘干+热分解”,避免了气孔的产生,极大地改善了过渡层与Ni基体结合力,使电极整体稳定性好,抗反向电流冲击和抗中毒能力大大增强。

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